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재직자교육과정
EDUCATION

과정 개요

교육명 반도체 공정기술 과정 (비전공자)
교육과정 이론 2일 (총 14시간)
교육대상 반도체 관련 기업 재직자
교육비 10만원 (유료 교육생의 경우)
세부교육 내용 - 1일차

주제 소주제 포함내용
반도체 제품 반도체기초 Wafer 제조, 반도체 제품 구조
DRAM 제품 DRAM 종류
Flash 제품 NOR/NAND Flash
비메모리 제품 AP제품, IoT 제품
단위공정(1) Photo 공정 기초 기본 공정 메커니즘 및 신기술
Etch 공정 기초 Wet Etch vs Dry Etch
Cleaning 공정 기초 세정공정 종류
이온주입공정 기초 이온주입 목적
확산공정 기초 확산과 산화
세부교육 내용 - 2일차

주제 소주제 포함내용
단위공정(2) 박막공정 기초 박막의 목적과 종류
CMP 공정 기초 CMP 목적과 불량
메탈공정 기초 Cu 다마신 공정
Bump공정 기초 Bump 목적
제품의 공정 CMOS 공정 기초 공정 Procedure 신기술 이해
DRAM 공정 기초
Flash 공정 기초
CIS 공정 기초
공정의 모니터링 TEG 이해 및 Trend 분석
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