GUIDE KSIA

상생협력 지원
SUPPORT COOPERATION

패턴웨이퍼 지원 프로그램

프로그램 개요

사업목표

- 20nm급 테스트용 패턴웨이퍼를 제공하여 국내 반도체 장비∙재료 업체의 기술력 향상을 지원
- 프로그램 기간 : 2015년 1월 ~ 현재 반기별 지원


주요 추진 내용

- 2015년 – 선진형 반도체 장비∙재료 개발을 위한 맞춤형 패턴웨이퍼 지원
- 2016년 – 다양화된 Spec의 패턴웨이퍼 지원 (17개 Type → 29개 Type)
- 2017년 – 반도체 장비∙재료 국산화를 위한 패턴웨이퍼 공급 확대


소자 대기업
페턴웨이퍼 제작,공급
패턴웨이퍼 제작

패턴웨이퍼 제작,
의뢰
운영사무국
패턴웨이퍼 공급

수요제기

패턴웨이퍼 제작
패턴웨이퍼 제작,의뢰

운영사무국

패턴웨이퍼 공급
수요제기

반도체 장비기업
페턴웨이퍼 활용 장비 개발


지원내용

패턴웨이퍼 공급

- 지원 가능한 패턴웨이퍼 : Bar Type, Hole Type, Blanket Type
- 연간 2,000장 규모
지원 주기 : 2회/년 (반기별 공급 진행)
지원자격 : 반도체 장비∙재료 기술개발 및 제조 기업
지원절차 : 모집공고 → 신청서 접수 → 지원대상 기업 선정 → 테스트용 패턴웨이퍼 공급


사업개요

패턴웨이퍼 공급

- 국내 장비∙재료∙부분품 기업이 개발, 제조한 장비∙재료∙부분품을 국내 수요대기업 , Fab을 활용하여 평가하고, 그 성능을 인증해주는 사업

평가 및 인증기업

- 삼성전자, SK하이닉스, 동부하이텍


신뢰성 검증
기술지도
성능평가 및 인증
CIP 검증

반도체 장기 · 재료산업 육성

장비 국산화
경재력 제고 (가격, 품질··)
인증된 장비·재료 공급


지원 내용

성능평가

- 국내 장비∙재료∙부분품 기업에서 개발 완료된 제품을 소자대기업 양산라인에 투입하여 평가하고 그 성능에 대해 공동 인증

성능향상

- 성능평가 등을 통하여 수요대기업을 통해 국산화에 성공한 품목 중 CIP(Continuous Improvement Program) 품목∙업체 선정 후 기술지도 및 기술자문을 통한 Upgrade 및 검증

성능평가•성능향상 지원 분과

- Photo, Etch, Diffusion, Thin Film, Cleaning & CMP, Metrology Inspection, Test, Package, Chemical, Photo Resist, Gas, Wafer
- 평가주기 : 1회/년